Oczyszczacze plazmowe


Oczyszczacze plazmowe

Urządzenia wytwarzające plazmę stosowane są coraz szerzej zarówno w nauce jak i przemyśle.  Jednym z zastosowań plazmy jest jej wykorzystanie do czyszczenia lub aktywacji powierzchni  materiałów takich jak izolatory, metale jak i półprzewodniki. Urządzenia te mogą pracować zarówno w warunkach niskiej próżni jak i nawet pod ciśnieniem atmosferycznym.

Tzw. plazma atmosferyczna znajduje coraz szersze zastosowanie w przemyśle. Brak konieczności wytwarzania próżni czyni proces łatwiejszym do integracji w urządzeniach przemysłowych jak i obniża wydajnie koszt  instalacji.

W procesach wymagających podwyższonej czystości  stosowana jest głównie plazma niskociśnieniowa  tzn. wytwarzana w warunkach próżni niskiej.

Firma MeasLine dostarcza zarówno zasilacze jak i kompletne urządzenia oraz dostosowuje, już będące w posiadaniu użytkownika, urządzenia próżniowe do pracy z plazmą niskociśnieniową.

Parametry techniczne standardowych zasilaczy:

  • Moc do 1 kW
  • Napięcie pracy do 1000V
  • Częstotliwość pracy: 20kHz
  • Regulowany czas pracy