M600 – system UHV do nanoszenia warstw epitaksjalnych oraz cienkich o wysokiej czystości i jakości.
Cechy:
- Cylindryczna komora ultra wysokiej próżni (UHV)
- Możliwość wyposażenia w kriopanel
- Wiele portów CF do źródeł depozycyjnych (ultra wysoka próżnia)
- Komora analityczna, komora załadowcza i wiele portów obserwacyjnych
- Różnorodność dostępnych akcesoriów dla nośnika próbek, umożliwiających m.in.: rotację, wygrzewanie, chłodzenie, polaryzację RF/DC
- Możliwość zastosowania różnorakich pomp np. jonowe, krio oraz turbo
- Szeroki zakres doboru źródeł wykorzystywanych w depozycji cienkich warstw (m.in: parowniki e-beam, krakery termiczne, komórki efuzyjne, magnetrony, oraz źródła nanocząsteczek)
Zastosowania:
- Warstwy półprzewodnikowe
- Tlenki, azotki
- Nanostruktury
- Systemy wielowarstwowe
- Stopy półprzewodnikowe
- Warstwy ultracienkie
- Nanoszenie warstwy pod kątem (Glancing Angle Deposition)
Konfiguracja komory
M 600 – modułowa platforma, przeznaczona do nanoszenia warstw w warunkach ultra wysokiej próżni. Doskonały dostęp do elementów komory jest zapewniony przez górny kołnierz. Wszystkie łączenia są spawane wewnętrznie i mogą być wypolerowane na życzenie w celu zminimalizowania efektu odgazowania powierzchni.
Porty: porty bazowe są rozmieszczone w sposób konfokalny (współogniskowy), a to pozwala na zastosowanie większej ilości źródeł osadzania niż w przypadku konfiguracji niekonfokalnej.
Możliwe jest wyspecyfikowanie dwóch dodatkowych portów bocznych przeznaczonych dla źródeł e-beam o wysokiej mocy, przy pozostawieniu do siedmiu konfokalnych portów osadzania.
System jest też wyposażony w liczne porty przeznaczone dla czujników i narzędzi do analizy.
Kriopanel: system może być wyposażony w panele chłodzone kriogenicznie, które wspomagają zarówno pompowanie jak i pozwalają uniknąć wymiany termicznej pomiędzy źródłami.
Wygrzewanie: system umożliwia zastosowanie wewnętrznego wygrzewania, bądź całkowicie zewnętrznego pokrowca z układem wygrzewania, a to pozwala osiągnąć wyższą próżnię bazową 1.0×10-10 Torr przy odpowiednim pompowaniu.
Pompowanie: system M600 może być wyposażony w pompy: turbo (w zakresie od 200, do 2000 ls-1), krio, oraz jonowe (można również stosować alternatywne typy pomp).
Ekrany
Istnieje opcja wyposażenia komory w usuwalne ekrany zapobiegające zanieczyszczaniom w przypadkach w których występuje wysoka wysoka szybkość depozycji.
Projekt komory głównej może być dostosowany do potrzeb klienta.
Ładowanie próbek
System bazowy posiada boczne drzwi dostępowe przystosowane do wybranej platformy próbek (od 1” do 6” jako standard, 8” na życzenie). Istnieje możliwość rozbudowania systemu o dodatkową komorę załadowczą, która umożliwi czysty transfer próbek bez zmiany próżni w komorze głównej. Przenoszenie próbki dokonywane jest za pomocą specjalnego ramienia transferowego ze sprzężeniem magnetycznym.
Transfer próbek może być zautomatyzowany ze specjalnej kasety na próbki (opcja dodatkowa).

Informacje o produkcie:
▬ Inne produkty firmy Mantis Deposition LTD. można znaleźć tutaj
Manipulator
Stolik na próbki/manipulator może być dostosowany do standardu (od 2” do 6”) lub kilku mniejszych próbek. Może on być również modyfikowany dla wielu konfiguracji niestandardowych.
Opcje dla stolika/manipulatora na podłoża:
- Zmienna szybkość obrotu próbki (20-80rpm)
- Polaryzacja DC/RF
- Podgrzewanie próbek do 800°C
- Wychładzanie próbek (wodą, lub ciekłym azotem)
- Przesunięcie w osi Z
Wszystkie elementy uchwytu na próbki, poddane działaniu wysokiej temperatury, zostały wykonane z materiałów wysokotemperaturowych, aby zachować wysoki współczynnik czystości systemu.
Czujniki, analityka
System standardowo dostarczany jest z pełnozakresowymi głowicami umożliwiający monitorowanie pompowania. Porty można wykorzystać do RHEED’a, elipsometrii, analizatorów gazu resztkowego, oraz kwarcowych monitorów grubości.
Automatyzacja
Dostępny jest kompleksowy pakiet oprogramowania stworzonego z myślą o automatyzacji systemu M600. Oprogramowanie pozwala na automatyczną kontrolę prawie wszystkich funkcji systemu, co z kolei umożliwia przeprowadzenie procesów według wcześniej zdefiniowanych instrukcji. Dodatkowo standardowe funkcje, takie jak automatyczne odpompowanie czy zapowietrzanie, zawarte są w pakiecie.
System można kontrolować manualnie.
Komponenty
- Źródła rozpylania – W podstawowych portach komory można można zamontować do sześciu źródeł rozpylania jonowego. Dostępne są magnetronowe źródła UHV o średnicach 1”, 2”, lub 3” dostosowane do pracy DC lub RF. Źródła te można wyposażyć w standardowe, wzmocnione magnesy a także w zestawy magnesów zbalansowanych (dostępne są również zestawy magnesów niezbalansowanych).
- Źródła E-beam
Można zastosować dwa rodzaje źródeł e-beam:
1. Źródła o małej mocy ale wysokiej dokładności. Rozwiązanie to jest przeznaczone do zastosowań w których wymagana jest wysoka kontrola procesu nanoszenia ultra cienkich powłok materiałów wysokotemperaturowych. Źródło posiada płytki służące do monitorowania strumienia dla każdej z kieszeni i pozwala na jednoczesne odparowywanie do czterech różnych materiałów.
2. Wielokilowatowe źródła. Drugie rozwiązanie pozwala osiągnąć wysokie tempo depozycji i dużą wydajność. System pozwala na zamontowanie do dwóch takich źródeł (z wieloma lub jedną kieszenią)
- Komórki efuzyjne
Komórki efuzyjne Mantis zostały zaprojektowane dla zastosowań w systemach MBE oraz hybrydowych UHV, w których wymagana jest wysoka czystość i precyzja parowania materiałów.
- Źródła plazmowe
Źródła stosowane do generowania wysoko reaktywnych wiązek tlenków/azotków. Znajdują one zastosowanie podczas tworzenia złożonych warstw o wysokiej jakości.
M600 (wersja standardowa) | |
---|---|
Komora | |
Konstrukcja | Cylindryczna/hemisferyczna UHV |
Górna flansza | Metalowe uszczelnienie |
Porty radialne | Rozmiar i ilość uzależniona od rozmiaru próbki i zastosowania |
Porty do depozycji | 5 (lub 7) x NW100CF 4 x NW35CF |
Pompy | |
Pompa główna | Od 300 ls^-1 do 2000ls^-1 Turbo, opcje krio, oraz jonowe |
Pompy wstępne | Pompy suche (scroll) |
Ciśnienie bazowe | <1x10^-10 Torra* |
Manipulator | |
Uchwyt próbki | Dla próbek 2-6" |
Ładowanie próbki | Przez drzwi na próbki, bądź za pomocą opcjonalnej komory załadowczej próbek |
Inne | |
Elektronika | Zamontowana w szafce |
Czujniki | Czujnik jonowy/Pirani |
Rama | Niska rama na kółkach transportowych |
Dodatkowe opcje | |
---|---|
Komora załadowcza próbek | |
Pompowanie | 70ls^-1 Turbo |
Transfer | Magnetycznie sprzężone ramię transferowe |
Manipulator | |
Obroty | Do 80 RPM |
Ogrzewanie | Do 1000°C |
Przemieszczanie w osi Z | 100mm |
Polaryzacja | Opcjonalny zasilacz |
Wygrzewanie | Wewnętrzne, lub w pokrowcu |
Kriopanel | Pełny, lub połowa |
Monitorowanie powłok | QCM, Elipsometria, RHEED |
Automatyzacja | Pełna automatyzacja procesu włączając w to, np. przeprowadzanie procesów według wcześniej zdefiniowanych instrukcji |