Komory próżniowe
Projektowane i produkowane przez firmę MeasLine komory wykonane są w standardzie HV lub UHV. Wszystkie parametry komory, w tym wielkość, kształt, grubość ścian, liczba i umiejscowienie kołnierzy dobierane są w oparciu o wytyczne klienta. Komory mogą być przystosowane do pracy w niskich oraz wysokich temperaturach.
Poniżej przedstawiono przykładowe realizacje.

Komora próżniowa w standardzie UHV
Komora próżniowa wykonana w standardzie UHV ze stali 304 L.
Wnętrze komory jest szlifowane, natomiast zewnętrza powierzchnia jest śrutowana. Komora posiada 8 kołnierzy.

Komora próżniowa w standardzie UHV
Komora próżniowa wykonana w standardzie UHV ze stali 304 L, z 3 kołnierzami obrotowymi i pozostałymi nieobrotowymi.
Wnętrze komory jest polerowane a z zewnątrz powierzchnia jest matowa. Wszystkie powierzchnie uszczelniające są polerowane.
Komora próżniowa w standardzie UHV
Komora próżniowa wykonana w standardzie UHV ze stali 304 L, z 3 kołnierzami obrotowymi i pozostałymi nieobrotowymi.
Wnętrze komory jest polerowane a z zewnątrz powierzchnia jest matowa. Wszystkie powierzchnie uszczelniające są polerowane.

Komora nanoszenia cienkich warstw
Prostopadłościenna komora próżniowa wykonana w standardzie UHV. Jest przeznaczona do nanoszenia cienkich warstw za pomocą do trzech źródeł magnetronowych wprowadzanych od dołu komory. Pozostałe kołnierze umożliwiają umieszczenie wewnątrz komory podłoży do nanoszenia warstw, mierników, wagi kwarcowej, podpięcie zestawu pompowego oraz montaż okna optycznego przeznaczonego do obserwacji procesu nanoszenia. Duże drzwi zapewniają łatwy dostęp do uchwytu na podłoża.

Komora z zewnętrznym chłodzeniem wodnym
Komora wysokiej próżni wykonana w standardzie HV ze stali 304 z możliwością zewnętrznego chłodzenia ścian komory za pomocą wody. Konstrukcja zapewnia łatwy dostęp zarówno do elementów mocowanych na zewnątrz jak również do wyposażenia próżniowego zainstalowanego wewnątrz komory. Komora została wykonana w kształcie prostopadłościanu z portami dostosowanymi do okien optycznych.