logo_head

Litografia sondy skanującej FE-SPL Field-Emission Scanning Probe Litography

Technika litografii sondy skanującej łączy w sobie zalety litografii wiązką elektronową z możliwościami Mikroskopii Sił Atomowych, w szczególności z ultra ostrymi ostrzami piezorezystywnej sondy skanującej oraz bliskim kontaktem próbnika z próbką. Aparatura pozwala nie tylko na tworzenie struktur o rozmiarach poniżej 5 nm, ale także na analizę uzyskanych powierzchni, bezpośrednio po ich utworzeniu za pomocą tego samego próbnika. System litografii sondy skanującej umożliwia uzyskanie powtarzalnych kształtów z wysoką rozdzielczością, nie wpływając na wzrost kosztów, które stanowią główne ograniczenie poprawy rozdzielczości w tradycyjnych technikach litograficznych. Ponadto technika SPL pozwala na znaczące ograniczenie powstawania uszkodzeń powierzchni, co umożliwia jej aplikację do ultracienkich materiałów.

Najważniejsze cechy techniki SPL

  • Uzyskiwanie struktur powierzchniowych z wysoką rozdzielczością
  • Praca w warunkach otoczenia i w próżni
  • Wysoka powtarzalność
  • Tworzenie i obrazowanie kształtów przy użyciu jednego ostrza
  • Technika nieuszkadzająca

 

Specyfikacja:

    Środowisko pracy Ciecze i gazy
    Tryby Pracy

    Tryb bezkontaktowy (Topografia, Przesunięcie Fazowe, Sygnał błędu)

    Tryb kontaktowy

    AFM z sondą przewodzącą

    Tryb spektroskopii (Krzywe siła-odległość)

    Inne tryby na życzenie Kelvin probe force microscopy (KPFM), Magnetic Force Microscopy (MFM),
    Litografia i inne).

    Kanały 2
    Rozdzielczość cyfrowa 18 Bit (rzeczywista rozdzielczość bez szumów)
    Przepustowość kontrolera Min. 5 MHz
    Skaner

    Górny skaner wyposażony w piezorezystywne czujniki położenia.

    Możliwe również umieszczenie dolnego skanera.

    Rozdzielczość pozycjonowania X: 1 nm, Y: 1 nm, Z: 0,3 nm
    Zakres ruchu (X, Y, Z)

    200 μm x 200 μm x 25 μm

    Inne zakresy na życzenie.

    Dolny pozycjoner zgrubny Zmotoryzowane pozycjonowanie stolikiem na życzenie na podstawie specyfikacji klienta.
    Kamera i optyka System zawiera kamerę USB do optycznej nawigacji próbek oraz optyczną konfigurację do regulacji powiększenia.
    Oprogramowanie Oprogramowanie nano analytik do AFM dodatkowo wbudowanym edytorem graficznym do struktur litograficznych. Rozdzielczość obrazy. Wszystkie rysunki można eksportować jako plik Gwyddion.
    Kontroler cyfrowy Kronos (100 MHz, oparty na układzie FPGA kontroler do SPM)
    Aktywna izolacja drgań Stolik antywibracyjny w zestawie.