logo_head
Ue Efrr

SURFTENS HL automatic

Urządzenie SURFTENSE HL automatic zostało stworzone z myślą przemyśle półprzewodnikowym, w szczególności do kontroli procesów powlekania powierzchni oraz litografii. 

 

Najważniejsze cechy urządzenia SURFTENS HL automatic

  • w pełni automatyczne mapowanie kąta zwilżania powierzchni
  • analiza jednorodności powierzchni
  • mały rozmiar urządzenia
  • zmowtoryzowany stolik do automatycznego pozycjonowania waferów
  • zmotoryzowana, automatyczna jednostka dozująca
  • automatyczne umieszczanie kropli
  • automatyczna sekwencja pomiarów kontrolowana z poziomu oprogramowania
  • wygodna dokumentacja wyników pomiaru w postaci protokołu oraz zapisu wideo
  • opracowany do pracy w clean-roomach
  • krótki czas pomiaru pozwalający na uniknięcie błędów

Specyfikacja:

    Rozmiar próbek do 12″
    Układ dozujący

    Automatyczny i zmotoryzowany

    Automatyczne umieszczanie kropli

    Układ pozycjonujący

    Automatyczny

    Ruch w kierunkach x i φ

    Czas pomiaru 1 s na kroplę
    Oprogramowanie

    Programowanie wszystkich etapów pomiaru

    Automatyczne tworzenie danych statystycznych

    Automatyczne gromadzenie danych w postaci protokołu i zapisu wideo

    Możliwość ręcznej analizy w przypadku obrazów o słabym kontraście