Źródła magnetronowe
Źródła magnetronowe umożliwiają nanoszenie cienkich, metalicznych i niemetalicznych warstw techniką PVD (fizyczne osadzanie z fazy gazowej). Rozpylanie magnetronowe realizowane jest w atmosferze gazu roboczego, np. argonu. Budowa magnetronów umożliwia podawanie gazy bezpośrednio nad targetem. Oferowane źródła magnetronowe dostosowane są do targetów o różnym rozmiarze (1″, 2″, 3″) i umożliwiają nanoszenie warstw w trybie DC (z targetów przewodzących) i RF (targetów nieprzewodzących).
Najważniejsze cechy źródeł magnetronowych:
- przeznaczone do nanoszenia cienkich warstw poprzez rozpylanie magnetronowe
- dostosowane zarówno do metalicznych jak i niemetalicznych targetów o różnych rozmiarach
- umożliwiają podawanie gazu bezpośrednio nad targetem
- mogą być wyposażone w kominek ograniczający rozpylanie na boki, redukujące zanieczyszczenia podczas współosadzania (z większej liczby źródeł)
- wyposażone w przesłonę
- szczelna, spawana konstrukcja
