Litografia sondy skanującej FE-SPL Field-Emission Scanning Probe Litography
Technika litografii sondy skanującej łączy w sobie zalety litografii wiązką elektronową z możliwościami Mikroskopii Sił Atomowych, w szczególności z ultra ostrymi ostrzami piezorezystywnej sondy skanującej oraz bliskim kontaktem próbnika z próbką. Aparatura pozwala nie tylko na tworzenie struktur o rozmiarach poniżej 5 nm, ale także na analizę uzyskanych powierzchni, bezpośrednio po ich utworzeniu za pomocą tego samego próbnika. System litografii sondy skanującej umożliwia uzyskanie powtarzalnych kształtów z wysoką rozdzielczością, nie wpływając na wzrost kosztów, które stanowią główne ograniczenie poprawy rozdzielczości w tradycyjnych technikach litograficznych. Ponadto technika SPL pozwala na znaczące ograniczenie powstawania uszkodzeń powierzchni, co umożliwia jej aplikację do ultracienkich materiałów.
Najważniejsze cechy techniki SPL
- Uzyskiwanie struktur powierzchniowych z wysoką rozdzielczością
- Praca w warunkach otoczenia i w próżni
- Wysoka powtarzalność
- Tworzenie i obrazowanie kształtów przy użyciu jednego ostrza
- Technika nieuszkadzająca
Specyfikacja:
| Środowisko pracy | Ciecze i gazy |
| Tryby Pracy |
Tryb bezkontaktowy (Topografia, Przesunięcie Fazowe, Sygnał błędu) Tryb kontaktowy AFM z sondą przewodzącą Tryb spektroskopii (Krzywe siła-odległość) Inne tryby na życzenie Kelvin probe force microscopy (KPFM), Magnetic Force Microscopy (MFM), |
| Kanały | 2 |
| Rozdzielczość cyfrowa | 18 Bit (rzeczywista rozdzielczość bez szumów) |
| Przepustowość kontrolera | Min. 5 MHz |
| Skaner |
Górny skaner wyposażony w piezorezystywne czujniki położenia. Możliwe również umieszczenie dolnego skanera. |
| Rozdzielczość pozycjonowania | X: 1 nm, Y: 1 nm, Z: 0,3 nm |
| Zakres ruchu (X, Y, Z) |
200 μm x 200 μm x 25 μm Inne zakresy na życzenie. |
| Dolny pozycjoner zgrubny | Zmotoryzowane pozycjonowanie stolikiem na życzenie na podstawie specyfikacji klienta. |
| Kamera i optyka | System zawiera kamerę USB do optycznej nawigacji próbek oraz optyczną konfigurację do regulacji powiększenia. |
| Oprogramowanie | Oprogramowanie nano analytik do AFM dodatkowo wbudowanym edytorem graficznym do struktur litograficznych. Rozdzielczość obrazy. Wszystkie rysunki można eksportować jako plik Gwyddion. |
| Kontroler cyfrowy | Kronos (100 MHz, oparty na układzie FPGA kontroler do SPM) |
| Aktywna izolacja drgań | Stolik antywibracyjny w zestawie. |
