SURFTENS WH 300
Profesjonalne urządzenie do zastosowań w przemyśle półprzewodników. Jest ono dedykowane do w pełni zautomatyzowanych pomiarów waferów o średnicy 300 mm (opcjonalnie 200 mm). Urządzenie składa się z 3-osiowego układu przenoszenia waferów, systemu do automatycznej analizy kształtu kropli oraz system nacinania.
Najważniejsze cechy urządzenia WH 300
- przeznaczony do analizy waferów w przemyśle półprzewodnikowym
- w pełni zautomatyzowany system przenoszenia i analizy podłoży
- automatyczny system dozowania i umieszczania kropli
- stolik z silnikiem krokowym
- możliwość przeprowadzania serii testów
Specyfikacja:
|
Elementy urządzenia |
3-osiowego układu przenoszenia waferów system do automatycznej analizy zwilżalności system nacinania waferów |
| Rozmiar próbek |
średnica 300 mm opcjonalnie na życzenie 200 mm |
| Kamera | CCD |
| Układ podawania podłoży | |
| Manipulowanie | 3-osiowe |
| Dokładność pozycjonowania | +/- 0,05 mm na poziomie próbki |
| Jednostki dozujące | |
| Dozowniki | automatyczne |
| Liczba | 1 opcjonalnie 2 |
| Wielkość kropli | programowalna |
| Strzykawka | 10 ml |
| Zbiornik | automatyczne uzupełnianie do 10 razy |
| Umieszczanie kropli |
automatyczne ruch w celu umieszczenia kropli jest programowalny |
| Usuwanie kropli | opcjonalnie system podgrzewania w celu odparowania kropli |
| Pomiar kąta zwilżania i swobodnej energii powierzchniowej (SFE) | |
| rozdzielczość pomiaru SFE | 0,05 mN/m |
| zakres pomiaru kąta zwilżania | 10°-170° |
| dokładność pomiaru kąta zwilżania` | +/-0,5° |
