System do plazmowej aktywacji powierzchni
Urządzenie jest przeznaczone do plazmowej aktywacji powierzchni niskociśnieniową plazmą tlenową. Zasadniczą częścią systemu jest komora próżniowa umożliwiająca wprowadzenie stalowego kosza posiadającego możliwość obrotu w czasie trwania procesu plazmowania. Obrót zapewnia równomierną aktywację całej powierzchni umieszczonych w koszu detali wykonanych ze stali bądź tworzyw sztucznych. Komora została zaprojektowana w sposób pozwalający na rozbudowę o układ chłodzenia wodą. System jest ponadto wyposażony w suchą pompę umożliwiającą uzyskanie pożądanego ciśnienia, miernik ciśnienia pozwalający na pomiar niezależnie od składu gazu wewnątrz komory, układ dozowania gazu oraz generowania plazmy.
Kontrola pracy systemu, w tym maksymalnego czasu odpompowania komory, ciśnienia podczas procesu, parametrów obrotu komory, realizowana jest za pomocą sterownika umożliwiającego wybór odpowiedniego programu aktywacji.
Oddziaływanie plazmy z powierzchnią, ze względu na wysoką reaktywność zjonizowanego gazu, prowadzi do modyfikacji powierzchni, w szczególności jej struktury i właściwości fizykochemicznych. Z tego względu plazma znajduje zastosowanie m.in. w procesach oczyszczania powierzchni, aktywacji powierzchni, zmiany hydrofobowości, sterylizacji poprzez zabijanie drobnoustrojów, przy czym obróbka plazmowa stanowi technologię czystą, pozwalającą na ograniczenie powstawania zanieczyszczeń poprzez wykluczenie użycia środków chemicznych.
Najważniejsze cechy urządzenia:
- System przeznaczony do plazmowej aktywacji powierzchni
- Zastosowanie niskociśnieniowej plazmy tlenowej, możliwość generowania plazmy innych gazów
- Zapewnienie równomiernej aktywacji powierzchni poprzez obrót kosza
- Możliwość chłodzenia komory wodą
- System w pełni zautomatyzowany, kontrolowany z poziomu sterownika
Specyfikacja:
Wymiary systemu | Szerokość: 1450 mm Długość: 2500 mm Wysokość: 2000 mm |
Wymiary kosza na detale | 650x470x300 mm |
Materiał kosza | Stal nierdzewna |
Masa kosza | ok 10 kg |
Szybkość obrotu kosza | regulowana w zakresie 1-60 obr/min |
Szybkość pompowania pompą suchą | ponad 150 m³/h |
Czas odpompowania komory do uzyskania ciśnienia 0,1 mbar | 2-4 min |
Ciśnienie podczas procesu | 0,1 to 1 mbar |
Częstotliwość źródła generacji plazmy | 60-80 kHz |
Moc źródła generacji plazmy | regulowana w zakresie 0-5000W |
Kontroler | Siemens S7-1200 |