logo_head
Ue Efrr
Powrót do wszystkich projektów
Systemy do nanoszenia cienkich warstw

System nanoszenia powłok PVDS 700

Napylarka próżniowa PVDS 700 to system nanoszenia powłok oparty na termicznej metodzie naparowywania cienkowarstwowego. Pod wpływem próżni i podgrzania do wysokiej temperatury różne materiały zaczynają szybko odparowywać lub sublimować. Powstałe opary mogą przemieszczać się bezpośrednio do celu bez oddziaływań w gazami tła. Kiedy atomy dotrą do docelowej powierzchni, wiążą się z nią tworząc cienką warstwę. Szybkość narastania warstwy zależy od temperatury materiału odparowującego i jest specyficzna dla materiału i geometrii komory.

Najważniejsze cechy urządzenia:

  • Przeznaczony do nanoszenia powłok techniką fizycznego osadzania z fazy gazowej (PVD)
  • System składający się z dwóch komór procesowych i komory załadowczej load-lock
  • Komora 1: do nanoszenia warstw metalicznych
  • Komora 2: do nanoszenia warstw organicznych
  • Przenoszenie próbek pomiędzy komorami za pomocą transferu liniowego
  • Rama zintegrowana ze sterownikiem systemu pomp i zasilaczy

Specyfikacja:

Standard próżni

Komory nanoszenia:
Standard UHV, kołnierze w standardzie CF. W celu ułatwienia dostępu w razie potrzeby zastosowano uszczelki elastomerowe.

Komora załadowcza:
Standard UHV, kołnierze w standardzie CF / KF. Drzwi szybkiego dostępu uszczelnione uszczelkami elastomerowymi.
System pompowania

Komora nanoszenia 1:
Turbomolekularny system pompujący Agilent TPS-flexy (X1699-64041) z pompą turbo TwisTorr 74 FS, suchą pompą scroll IDP-3 i sterownikiem TwisTorr 74 FS AG

Komora nanoszenia 2:
Turbo-molekularny system pomp, Edwards T-Station 85H Dry CF63 200-240V TS85D3001

Komora załadowcza:
Sucha pompa próżniowa Scroll Edwards NXDS20i
Źródła parowania

Komora nanoszenia 1:
1. Źródło parowania z tyglem ceramicznym i grzałką wolframową do odparowywania metali o niskiej temperaturze np. Glin
2. Źródło parowania z podgrzewaczem do odparowywania metali o wyższej temperaturze np. Cr

Komora nanoszenia 2:
Źródło parowania z ceramicznym tyglem i wolframową grzałką do odparowywania materiałów organicznych
Kontrola procesu Waga kwarcowa do kontroli szybkości osadzania / grubości warstwy z możliwością chłodzenia wodą
Stolik na próbkę

Komora nanoszenia 1:
Obrotowy, ogrzewany IR do 400°C

Komora nanoszenia 2:
Statyczne chłodzenie LN2 z ręczną regulacją szybkości wymiany ciepła i wewnętrzną grzałką do stabilizacji temperatury. Zakres temperatur od -195°C do 50°C

Komora załadowcza:
Obrotowy
Przesłona Ręczna
Wskaźnik ciśnienia

Komora nanoszenia 1:
Jonizator z gorącą katodą typu Bayard-Alpert. InstruTech IGM401 Hornet™. Zakres pomiaru ciśnienia: 1.00e-9 do 5.00e-2 Tor

Komora nanoszenia 2:
Jonizator z gorącą katodą typu Bayard-Alpert ze zintegrowanym Pirani Edwards WRG-S-DN40CF. Zakres pomiaru ciśnienia: 1,00e-9 Tor do atmosfery

Komora załadowcza:
Wskaźnik typu Piraniego. InstruTech CVM211 Stinger™. Zakres pomiaru ciśnienia manometru wynosi: 1.00e-4 do 1000 Tor
Cechy szczególne

Komora nanoszenia 1:
2-punktowa sonda do pomiaru pojemności cieplnej

Komora nanoszenia 2:
Kriostat LN2 do stolika na próbki

Komora załadowcza:
Drzwi szybkiego dostępu

Zobacz także inne systemy do nanoszenia warstw:
Kompaktowa napylarka LPNW01 do termicznego nanoszenia cienkich warstw 
Kompaktowa napylarka do metalizacji powierzchni z możliwością termicznego i magnetronowego nanoszenia warstw
Kompaktowa napylarka MCS 787 wyposażona w do czterech źródeł magnetronowych

W celu wyboru urządzenia do charakterystyki nanoszonych warstw, w tym do pomiaru grubości powłok w zakresie od nanometrów do mikrmetrów, zapraszamy do zapoznania z ofertą firmy Thetametrisis, dostępną na naszej stronie.